继台积电公布5+nm之后 三星将公布3nm路线图

　　前两天，台积电对外公布了未来3年的制程计划，其中除了5nm制程外，还提到了5nm之后的5nm+。作为台积电的重要竞争对手，三星也加快了步伐。消息称，三星将会于下周公布3nm以下工艺路线图，与台积电展开竞争。

　　相比台积电，三星的策略更为激进。三星同样计划了5nm工艺，同时还有3nm工艺。据称三星采用的3nm工艺与目前的技术并不相同，其采用了GAA晶体管技术，用于取代目前的FinFET晶体管技术。GAA晶体管技术可以增强晶体管性能，当然对于工艺也提出更高要求。

三星将公布3nm路线图

　　目前台积电和三星还要面临的问题是，3nm已经逼近物理极限了，也是公认摩尔定律失效的节点。如果下周三星能够公布3nm以下工艺的技术，那么这对于半导体行业而言将会具有显著的推动作用。

　　编辑点评：从目前的节奏来看，三星可能想要做的事情就是弯道超车。目前FinFET晶体管技术，台积电明显占优势，特别是在量产这件事上。三星想要实现超越，只能选择新的技术。

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（编辑：晋中站长网）

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